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    化學氣相沉積耐磨涂層TiN的溫度選擇

    張林榮 張福林

    張林榮, 張福林. 化學氣相沉積耐磨涂層TiN的溫度選擇[J]. 工程科學學報, 1989, 11(1): 69-73. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1989.01.013
    引用本文: 張林榮, 張福林. 化學氣相沉積耐磨涂層TiN的溫度選擇[J]. 工程科學學報, 1989, 11(1): 69-73. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1989.01.013
    Zhang Linrong, Zhang Fulin. Selection of Temperature for Chemical Vapor Deposition of Wear-Resistance TiN Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 1989, 11(1): 69-73. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1989.01.013
    Citation: Zhang Linrong, Zhang Fulin. Selection of Temperature for Chemical Vapor Deposition of Wear-Resistance TiN Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 1989, 11(1): 69-73. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1989.01.013

    化學氣相沉積耐磨涂層TiN的溫度選擇

    doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1989.01.013

    Selection of Temperature for Chemical Vapor Deposition of Wear-Resistance TiN Films

    • 摘要: 化學氣相沉積(CVD)TiN涂層在模具上涂復3~10μm可使模具壽命提高3~4倍。本文研究指出:沉積溫度對沉積速率、涂層硬度及對基體Cr12MoV硬度和尺寸都有影響。在950~1000℃間可以得到接近化學計量的TiN,其硬度Hv1≈20000N/mm2,基體尺寸變化在萬分之五以內。

       

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    出版歷程
    • 收稿日期:  1987-12-21
    • 網絡出版日期:  2021-10-29

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