離子束轟擊法金剛石薄膜拋光

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離子束轟擊法金剛石薄膜拋光

陳俊, 楊保雄, 王建軍, 呂反修

文章導航 > 工程科學學報 > 1993 > 15(5): 503-507

陳俊, 楊保雄, 王建軍, 呂反修. 離子束轟擊法金剛石薄膜拋光[J]. 工程科學學報, 1993, 15(5): 503-507. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

引用本文:

陳俊, 楊保雄, 王建軍, 呂反修. 離子束轟擊法金剛石薄膜拋光[J]. 工程科學學報, 1993, 15(5): 503-507. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

Chen Jun, Yang Baoxiong, Wang Jianjun, Lu Fanxiu. Polishing of CVD Diamond Films by Ion Beam Irradiation[J]. Chinese Journal of Engineering, 1993, 15(5): 503-507. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

Citation:

Chen Jun, Yang Baoxiong, Wang Jianjun, Lu Fanxiu. Polishing of CVD Diamond Films by Ion Beam Irradiation[J]. Chinese Journal of Engineering, 1993, 15(5): 503-507. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

陳俊, 楊保雄, 王建軍, 呂反修. 離子束轟擊法金剛石薄膜拋光[J]. 工程科學學報, 1993, 15(5): 503-507. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

引用本文:

陳俊, 楊保雄, 王建軍, 呂反修. 離子束轟擊法金剛石薄膜拋光[J]. 工程科學學報, 1993, 15(5): 503-507. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

Chen Jun, Yang Baoxiong, Wang Jianjun, Lu Fanxiu. Polishing of CVD Diamond Films by Ion Beam Irradiation[J]. Chinese Journal of Engineering, 1993, 15(5): 503-507. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

Citation:

Chen Jun, Yang Baoxiong, Wang Jianjun, Lu Fanxiu. Polishing of CVD Diamond Films by Ion Beam Irradiation[J]. Chinese Journal of Engineering, 1993, 15(5): 503-507. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

離子束轟擊法金剛石薄膜拋光

doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1993.05.031

材料科學與工程系

基金項目:

國家高技術計劃新材料領域專家委員會資助項目 863-715-03-02-02

作者簡介:
陳俊,男,29歲,講師,碩士

中圖分類號: O613.71;O462.5
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出版歷程
- 收稿日期: 1992-10-15
- 網絡出版日期: 2021-10-18

Polishing of CVD Diamond Films by Ion Beam Irradiation

Department of Materials Science and Engineering

摘要: 本文采用氬離子束轟擊法,對不同晶體學表面形貌的CVD金剛石膜進行拋光處理。結果表明,對不同表面形貌的金剛石膜,應合理選擇離子束轟擊入射角,提高離子束加速電壓有利于提高拋光效率,(100)擇優生長的金剛石膜最容易得到高的表面平整度。
- 金剛石 /
- 薄膜 /
- 離子束 /
- 拋光/CVD一金剛石
Abstract: To improve the surface roughness of CVD diamond films, ion beam milling was used to polish the film. The results of this experiment indicate that the ideal incident angle of ion beam varies with the surface morphology and that high accelaration voltage of ion beam is beneficial to achieving high polishing rate. It was also found that the film exposing (100) facets can be most easily polished to achieve Ra 28 nm surface roughness.
- diamond /
- film /
- polishing /
- ion beam/cvddiamond

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