• 《工程索引》(EI)刊源期刊
    • 中文核心期刊
    • 中國科技論文統計源期刊
    • 中國科學引文數據庫來源期刊

    留言板

    尊敬的讀者、作者、審稿人, 關于本刊的投稿、審稿、編輯和出版的任何問題, 您可以本頁添加留言。我們將盡快給您答復。謝謝您的支持!

    姓名
    郵箱
    手機號碼
    標題
    留言內容
    驗證碼

    低飽和場巨磁電阻金屬多層膜Ni80Fe20/Cu的結構與磁電阻

    姜宏偉 閻明朗 賴武彥 柴春林 朱逢吾

    姜宏偉, 閻明朗, 賴武彥, 柴春林, 朱逢吾. 低飽和場巨磁電阻金屬多層膜Ni80Fe20/Cu的結構與磁電阻[J]. 工程科學學報, 1997, 19(4): 360-364. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.04.031
    引用本文: 姜宏偉, 閻明朗, 賴武彥, 柴春林, 朱逢吾. 低飽和場巨磁電阻金屬多層膜Ni80Fe20/Cu的結構與磁電阻[J]. 工程科學學報, 1997, 19(4): 360-364. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.04.031
    Jiang Hongwei, Yan Minglang, Lai Wuyan, Chai Chunlin, Zhu Fengwu. Giant Magnetoresistance Effect and Microstructure for Metallic Multilayers Ni80Fe20/Cu with Low Saturation Field[J]. Chinese Journal of Engineering, 1997, 19(4): 360-364. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.04.031
    Citation: Jiang Hongwei, Yan Minglang, Lai Wuyan, Chai Chunlin, Zhu Fengwu. Giant Magnetoresistance Effect and Microstructure for Metallic Multilayers Ni80Fe20/Cu with Low Saturation Field[J]. Chinese Journal of Engineering, 1997, 19(4): 360-364. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.04.031

    低飽和場巨磁電阻金屬多層膜Ni80Fe20/Cu的結構與磁電阻

    doi: 10.13374/j.issn1001-053x.1997.04.031
    基金項目: 

    中國科學院K951-A1-401基金

    詳細信息
      作者簡介:

      姜宏偉 男 30歲 博士

    • 中圖分類號: TM271

    Giant Magnetoresistance Effect and Microstructure for Metallic Multilayers Ni80Fe20/Cu with Low Saturation Field

    • 摘要: 采用磁控濺射方法,獲得了具有低飽和場巨磁電阻的Ni80Fe20/Cu由金屬多層膜.在室溫下,其磁電阻和層間耦合狀態隨Cu層厚度的增加呈振蕩變化.在Cu層厚度tcu=1.0nm,2.2nm時磁電阻出現2個峰值分別為19.4%和11.7%,飽和場約為6.4×104 A/m和8×103 A/m,低溫下(77K)磁電阻為對33.2%和27.6%.系統地研究了NiFe層厚度和周期數對多層膜磁電阻的影響.用真空退火方法對樣品進行熱處理,發現多層膜的磁電阻性能有明顯改變.

       

    • 加載中
    計量
    • 文章訪問數:  243
    • HTML全文瀏覽量:  66
    • PDF下載量:  6
    • 被引次數: 0
    出版歷程
    • 收稿日期:  1997-05-24
    • 網絡出版日期:  2021-09-04

    目錄

      /

      返回文章
      返回
      中文字幕在线观看