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    大規模集成電路導電薄膜的織構效應

    毛衛民 張弘

    毛衛民, 張弘. 大規模集成電路導電薄膜的織構效應[J]. 工程科學學報, 2000, 22(6): 539-542. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2000.06.014
    引用本文: 毛衛民, 張弘. 大規模集成電路導電薄膜的織構效應[J]. 工程科學學報, 2000, 22(6): 539-542. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2000.06.014
    MAO Weimin, ZHANG Hong. Texture Effect of Interconnection Thin Films in Very Large-Scale Integrated Electronic Circuits[J]. Chinese Journal of Engineering, 2000, 22(6): 539-542. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2000.06.014
    Citation: MAO Weimin, ZHANG Hong. Texture Effect of Interconnection Thin Films in Very Large-Scale Integrated Electronic Circuits[J]. Chinese Journal of Engineering, 2000, 22(6): 539-542. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2000.06.014

    大規模集成電路導電薄膜的織構效應

    doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2000.06.014
    詳細信息
      作者簡介:

      毛衛民,男49歲,教授

    • 中圖分類號: TB303

    Texture Effect of Interconnection Thin Films in Very Large-Scale Integrated Electronic Circuits

    • 摘要: 利用X射線技術檢測了普通工藝和改進工藝制備的內聯導電鋁膜的織構.分析表明,高體積量且鋒銳的{111}面織構可以大幅度降低大規模集成電路芯片的失效率.討論了失效的原因及{111}織構的有利作用.指出了新一代內聯導電銅膜相應織構問題的重要性.

       

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    出版歷程
    • 收稿日期:  2000-04-10
    • 網絡出版日期:  2021-08-27

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