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    基于CFX軟件的氮化硅反應爐內熱過程的數值模擬

    陳錦 楊晶 尹少武 王立

    陳錦, 楊晶, 尹少武, 王立. 基于CFX軟件的氮化硅反應爐內熱過程的數值模擬[J]. 工程科學學報, 2005, 27(6): 710-715. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.06.018
    引用本文: 陳錦, 楊晶, 尹少武, 王立. 基于CFX軟件的氮化硅反應爐內熱過程的數值模擬[J]. 工程科學學報, 2005, 27(6): 710-715. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.06.018
    CHEN Jin, YANG Jing, YIN Shaowu, WANG Li. Numerical simulation on thermal process in an Si_3N_4-reaction furnace with CFX[J]. Chinese Journal of Engineering, 2005, 27(6): 710-715. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.06.018
    Citation: CHEN Jin, YANG Jing, YIN Shaowu, WANG Li. Numerical simulation on thermal process in an Si_3N_4-reaction furnace with CFX[J]. Chinese Journal of Engineering, 2005, 27(6): 710-715. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.06.018

    基于CFX軟件的氮化硅反應爐內熱過程的數值模擬

    doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2005.06.018
    基金項目: 

    留學啟動基金(No.11140025)

    詳細信息
      作者簡介:

      陳錦(1979-),女,碩士研究生

    • 中圖分類號: TK124

    Numerical simulation on thermal process in an Si_3N_4-reaction furnace with CFX

    • 摘要: 利用大型商業軟件CFX建立了高溫氮化硅反應爐內溫度場的數學模型,采用擬流體模型數值模擬爐內的層流流動,分析了氮氣體積流量、各向異性散射和輻射特性等因素對溫度場和產物質量濃度的影響.計算結果表明,為確保反應充分完全,預熱段溫度控制顯得非常重要,而氮氣體積流量起著決定性的作用;各向異性散射對徑向溫度、產物質量濃度有一定的影響;散射率對溫度場影響很小;計算值與實驗值相比較,誤差在10%之內.

       

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    出版歷程
    • 收稿日期:  2004-11-15
    • 修回日期:  2005-03-02
    • 網絡出版日期:  2021-08-17

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