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    反應等離子噴涂TiN涂層電化學腐蝕行為

    李莎 閻殿然 董艷春 王師 高國旗 張志彬

    李莎, 閻殿然, 董艷春, 王師, 高國旗, 張志彬. 反應等離子噴涂TiN涂層電化學腐蝕行為[J]. 工程科學學報, 2009, 31(9): 1147-1151. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2009.09.009
    引用本文: 李莎, 閻殿然, 董艷春, 王師, 高國旗, 張志彬. 反應等離子噴涂TiN涂層電化學腐蝕行為[J]. 工程科學學報, 2009, 31(9): 1147-1151. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2009.09.009
    LI Sha, YAN Dian-ran, DONG Yan-chun, WANG Shi, GAO Guo-qi, ZHANG Zhi-bin. Electrochemical corrosion behavior of reactive plasma-sprayed TiN coatings[J]. Chinese Journal of Engineering, 2009, 31(9): 1147-1151. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2009.09.009
    Citation: LI Sha, YAN Dian-ran, DONG Yan-chun, WANG Shi, GAO Guo-qi, ZHANG Zhi-bin. Electrochemical corrosion behavior of reactive plasma-sprayed TiN coatings[J]. Chinese Journal of Engineering, 2009, 31(9): 1147-1151. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2009.09.009

    反應等離子噴涂TiN涂層電化學腐蝕行為

    doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2009.09.009
    詳細信息
      作者簡介:

      李莎(1983-),女,碩士研究生;閻殿然(1946-),男,教授,博士生導師,E-mail:yandianran@126.com

    • 中圖分類號: TG174.442

    Electrochemical corrosion behavior of reactive plasma-sprayed TiN coatings

    • 摘要: 利用電化學阻抗譜等電化學方法及掃描電鏡(SEM)技術,研究了反應等離子噴涂TiN涂層在模擬海水中的電化學腐蝕行為.研究結果表明:TiN涂層的自腐蝕電位高于基體,涂層對基體能起到良好的腐蝕屏蔽作用;腐蝕介質通過涂層的通孔、微裂紋等缺陷滲入涂層與基體的界面腐蝕基體,從而使涂層電阻下降、電容增加,所產生的腐蝕產物在一定程度上可以抑制腐蝕反應的進行,但不會阻止基體局部腐蝕的繼續進行.涂層的孔隙是造成涂層電化學腐蝕的主要原因.

       

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    出版歷程
    • 收稿日期:  2009-01-16
    • 網絡出版日期:  2021-08-09

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