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    掃描Kelvin探針研究缺陷涂層的膜下腐蝕電化學行為

    李迎超 高瑾 李曉剛 董超芳 肖葵

    李迎超, 高瑾, 李曉剛, 董超芳, 肖葵. 掃描Kelvin探針研究缺陷涂層的膜下腐蝕電化學行為[J]. 工程科學學報, 2010, 32(9): 1169-1174. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2010.09.016
    引用本文: 李迎超, 高瑾, 李曉剛, 董超芳, 肖葵. 掃描Kelvin探針研究缺陷涂層的膜下腐蝕電化學行為[J]. 工程科學學報, 2010, 32(9): 1169-1174. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2010.09.016
    LI Ying-chao, GAO Jin, LI Xiao-gang, DONG Chao-fang, XIAO Kui. Research of electrochemical corrosion behavior under coatings with defects by scanning Kelvin probe[J]. Chinese Journal of Engineering, 2010, 32(9): 1169-1174. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2010.09.016
    Citation: LI Ying-chao, GAO Jin, LI Xiao-gang, DONG Chao-fang, XIAO Kui. Research of electrochemical corrosion behavior under coatings with defects by scanning Kelvin probe[J]. Chinese Journal of Engineering, 2010, 32(9): 1169-1174. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2010.09.016

    掃描Kelvin探針研究缺陷涂層的膜下腐蝕電化學行為

    doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2010.09.016
    基金項目: 

    科技部國家科技基礎條件平臺建設資助項目(No.2005DKA10400)

    詳細信息
      作者簡介:

      李迎超(1985-),男,碩士研究生;高瑾(1963-),女,研究員,E-mail:g.jin@163.com

    • 中圖分類號: TG174.46

    Research of electrochemical corrosion behavior under coatings with defects by scanning Kelvin probe

    • 摘要: 應用掃描Kelvin探針原位研究鹽霧和干濕周浸環境中缺陷涂層膜下的腐蝕行為.結果顯示:在兩種腐蝕環境中,缺陷涂層均分為缺陷、陰極剝離及完好涂層區域;Kelvin電位的分布相同,缺陷處最高,完整涂層處最低.Kelvin電位分布峰的直徑隨時間的延長而增大,表明剝離區域擴大.干濕周浸環境中,Kelvin電位的最大值Vmax隨時間變化不明顯,Vmin在逐漸下降后達到谷值,隨后升高;鹽霧環境中由于電解質溶液持續擴散和鹽霧顆粒極強的腐蝕性,Kelvin電位隨時間的變化規律為Vmin在起始階段達到最小值,隨后升高.由Vmax-Vmin的變化規律得出,干濕周浸環境下腐蝕傾向性在試驗開始5h后達到最大,而在鹽霧環境下,試驗開始階段腐蝕傾向性就達到最大,且要高于干濕周浸環境.

       

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    出版歷程
    • 收稿日期:  2009-10-09

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